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牛津仪器Etch刻蚀工艺
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牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备
的市场发展,PlasmaPro 100 Estrelas 提供了工艺灵活性。光滑侧壁工艺高刻蚀速率腔刻蚀高深宽比工艺锥形通孔刻蚀广泛的应用领域机械或静电压盘加热内衬 改善重复性延长
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
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牛津仪器Ionfab300刻蚀和沉积设备
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牛津仪器AZtecTEM软件
AZtecTEM 是一款专为透射电镜用EDS分析而设计的软件。 AZtecTEM 是一种用于表征纳米级材料的分析系统。凭借牛津仪器超过30年的TEM技术经验,Aztec几乎可以满足您对TEM
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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牛津仪器TKD样品座
专为TKD分析的样品座,TKD即透射菊池花样演示分析(Transmission Kikuchi Diffraction)技术,是最新用于检测仅十几纳米尺度的EBSD分析方法,空间分辨率比传统技术
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牛津仪器相机Andor Newton
Both the Andor Newton EMCCD spectroscopy detectors and Newton conventional CCD spectroscopy
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牛津仪器相机Andor iDus
iDus spectroscopy CCD Camera is designed with the lowest noise to provide an ultra sensitive
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